我校擬對(duì)材化學(xué)院磁控濺射離子復(fù)合鍍進(jìn)行公開招標(biāo)采購(gòu)，歡迎相關(guān)具有資質(zhì)的廠商投標(biāo)報(bào)名。詳細(xì)技術(shù)要求如下：
技術(shù)參數(shù)：磁控濺射室；磁控濺射靶；直流電源；
離子速濺射室；四工位轉(zhuǎn)靶；真空測(cè)量系統(tǒng)；
計(jì)算機(jī)控制鍍層系統(tǒng)；制備超薄膜—中厚膜。
報(bào)名截止日期：2008年7月8日下午4點(diǎn)
地點(diǎn)：西安工業(yè)大學(xué)國(guó)資處（未央校區(qū)）
聯(lián)系電話：029-83208036，86173142
聯(lián)系人：李老師，陳老師，朱老師
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